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半導(dǎo)體光刻機(jī)(超精密定位)

  • 應(yīng)用場(chǎng)景:ASML EUV光刻機(jī)晶圓臺(tái)驅(qū)動(dòng)

  • 滾珠絲杠作用:控制晶圓臺(tái)的納米級(jí)移動(dòng),確保曝光精度。

  • 技術(shù)參數(shù)

    • 直徑:16mm,導(dǎo)程:2mm(微導(dǎo)程設(shè)計(jì))

    • 精度等級(jí):C0級(jí)(定位精度±0.001mm)

    • 溫控要求:±0.1℃內(nèi)(減少熱變形)

  • 優(yōu)勢(shì):超高精度、抗振設(shè)計(jì),匹配激光干涉儀閉環(huán)反饋系統(tǒng)。